Harrick扩展型 等离子清洗器

产品简介

Harrick Plasma公司的等离子清洗器是一种小型化、非破坏性的超清洗设备。等离子清洗器采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。等离子清洗器外接一台真空泵，工作时清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面，短时间的清洗就可以使有机污染物被彻底地清洗掉，同时污染物被真空泵抽走，其清洗程度达到分子级。等离子清洗器除了具有超清洗功能外，在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能，等离子体作用于材料表面，使表面分子的化学键发生重组，形成新的表面特性。对某些有特殊用途的材料，在超清洗过程中等离子清洗器的辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和浸润性，并可消毒和杀菌。等离子清洗器广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。

技术参数

主要应用

1、表面活化改性，增加粘接牢固性及侵润性；

2、表面清洗，去除表面杂质等；

3、提供等离子环境，对于光聚和化学反应等提供相关反应条件；

4、杀菌等其他应用。

选配件

选件一：气体计量混合器PlasmaFloTM

含两个标准的气体流量计(1.0 SCFH & 2.0 SCFH)

适用气体:空气、氩气、氮气和混合气体

选件二：真空泵

PDC-VP-2(220V)抽真空速度(50/60Hz):3.2/3.6 m3/hr

PDC-VPE-2(220V)抽真空速度(50/60Hz):5.1 m3/hr

选件三：石英等离子清洗舱及托盘